Target sputtering kalsium manganat (calcium manganate sputtering target, CaMnO3) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 3'' dan ketebalan 0,250''. Target berfungsi sebagai sumber material dalam deposisi sputter: material dikikis dari permukaan target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Metode sputtering dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Hasilnya dapat diulang dengan konsisten, dan prosesnya dapat ditingkatkan dari proyek riset dan pengembangan skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
- Deposisi lapisan tipis CaMnO3 pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST02CA11
- Material: Kalsium Manganat (CaMnO3)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST02CA11
—
—