Target sputtering karbon adalah material sumber berbentuk cakram padat yang digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film karbon tipis ke substrat. Produk ini berbasis grafit, alotrop kristalin karbon dengan struktur berlapis, dan termasuk dalam golongan nanomaterial yang disediakan Nanografi untuk keperluan riset.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Deposisi film karbon tipis untuk riset perangkat elektronik dan optoelektronik
- Pengembangan lapisan konduktif dan pelindung pada substrat logam dan keramik
- Riset material elektroda dan penyimpanan energi, termasuk studi baterai dan superkapasitor
- Ilmu permukaan dan karakterisasi lapisan tipis di laboratorium akademik maupun industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—