Target sputtering karbon (C) graphite adalah bahan sumber berbentuk cakram padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis karbon pada substrat. Graphite merupakan alotrop kristalin dari karbon, dikenal karena struktur berlapisnya, konduktivitas listrik, dan kestabilan kimianya. Sebagai target sputtering, material ini dibombardir dengan ion berenergi tinggi di dalam ruang vakum, sehingga melepaskan atom karbon yang mengendap pada substrat membentuk lapisan yang seragam. Material ini termasuk dalam golongan nanomaterial berbasis karbon dan sumber lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis karbon untuk riset perangkat elektronik dan semikonduktor
- Pembuatan lapisan karbon konduktif untuk studi elektroda dan sensor
- Lapisan karbon pelindung dan fungsional untuk permukaan optik maupun mekanik
- Penelitian akademik mengenai lapisan tipis berbasis karbon dan proses deposisi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—