Target sputtering karbon (graphite) merupakan material sumber padat berdensitas tinggi yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis berbasis karbon. Graphite adalah alotrop kristalin dari karbon, unsur non-logam yang dihargai karena stabilitas kimianya, konduktivitas listriknya, dan struktur berlapisnya. Dalam proses sputtering, ion menghantam permukaan target dan melepaskan atom karbon yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan yang seragam.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran yang disesuaikan dengan kebutuhan riset atau produksi Anda.
- Deposisi lapisan tipis karbon untuk riset pelapis pelindung dan tahan aus
- Pembuatan lapisan karbon amorf dan diamond-like carbon dalam studi ilmu material
- Pengembangan lapisan elektroda dan konduktif untuk riset penyimpanan energi dan sensor
- Lapisan antara (interlayer) dan lapisan penghalang karbon dalam prototipe mikroelektronika dan perangkat optik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—