Target sputtering karbon (graphite) adalah material sumber padat dan padat-rapat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Tergolong dalam nanomaterial berbasis karbon dan material sumber film tipis, target ini dibombardir dengan ion berenergi tinggi di dalam ruang vakum sehingga atom karbon terlepas dan mengendap pada substrat sebagai lapisan tipis. Target graphite umumnya digunakan di laboratorium riset yang mengembangkan lapisan pelindung dan lapisan fungsional berbasis karbon.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi film tipis karbon untuk riset lapisan pelindung dan lapisan tahan aus
- Pembuatan lapisan konduktif dan elektroda berbasis karbon untuk studi perangkat elektronik
- Persiapan lapisan penghalang (barrier) dan lapisan antara pada tumpukan film tipis multilapis
- Persiapan sampel untuk studi karakterisasi permukaan dan material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—