Target sputtering karbon (C) grafit pirolitik adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis berbasis karbon. Grafit pirolitik adalah bentuk karbon yang padat dan sangat berorientasi, umumnya diproduksi melalui chemical vapor deposition pada suhu tinggi. Material ini termasuk golongan nanomaterial karbon dan material target anorganik maju, dan dihargai karena keseragaman strukturnya serta kesesuaiannya sebagai sumber sputtering dalam sistem vakum terkendali.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis karbon untuk riset perangkat elektronik dan optoelektronik
- Pembuatan lapisan pelindung dan penghalang dalam studi ilmu material
- Penyiapan lapisan elektroda berbasis karbon untuk riset penyimpanan dan konversi energi
- Pertumbuhan lapisan antara karbon untuk studi graphene dan material dua dimensi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—
