Target sputtering karbon (C) grafit pirolitik adalah material sumber padat yang terbuat dari grafit pirolitik, yaitu bentuk karbon unsur yang sangat terorientasi dan padat, diproduksi melalui deposisi uap kimia pada suhu tinggi. Termasuk dalam golongan nanomaterial karbon dan material karbon maju, target ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana atom-atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis karbon.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis karbon untuk riset lapisan pelindung dan tahan aus
- Pembuatan lapisan elektroda berbasis karbon dalam studi perangkat penyimpanan dan konversi energi
- Pengembangan lapisan karbon untuk riset komponen optik dan elektronik
- Persiapan lapisan karbon untuk eksperimen ilmu permukaan dan karakterisasi material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—