Target sputtering karbon (C) adalah material sumber padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target sehingga atom tersebut dapat menempel pada substrat sebagai lapisan tipis. Target karbon termasuk dalam golongan material elemental anorganik dan terutama digunakan untuk membuat lapisan berbasis karbon dalam kegiatan laboratorium dan pengembangan. Produk Nanografi disediakan untuk riset dan sistem sputtering skala pilot.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis karbon untuk riset perangkat elektronik dan optoelektronik
- Pengembangan lapisan karbon pelindung dan tahan aus
- Pembuatan lapisan elektroda berbasis karbon untuk studi energi dan sensor
- Studi permukaan dan antarmuka dalam ilmu material lapisan tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—