Target sputtering karbon (C) adalah material sumber padat yang digunakan dalam deposisi uap fisika (PVD) untuk membentuk lapisan tipis berbahan dasar karbon di atas substrat. Karbon adalah unsur non-logam yang dapat membentuk beberapa struktur, mulai dari grafitik hingga amorf, tergantung pada proses dan kondisi deposisi. Judul produk juga menyebutkan indium, sehingga rincian komposisi, termasuk unsur tambahan apa pun, perlu dikonfirmasi dengan AMI Scientific sebelum digunakan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan tipis karbon untuk lapisan pelindung
- Studi elektroda dan lapisan konduktif dalam pengembangan perangkat elektronik
- Lapisan optik dan modifikasi permukaan dalam ilmu material
- Pembuatan film berbahan dasar karbon untuk eksperimen deposisi laboratorium
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—