Target sputtering karbon adalah sumber karbon padat dengan kerapatan tinggi yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), di mana material dilepaskan dari target dan diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat. Produk ini tergolong target nanomaterial untuk riset lapisan tipis. Judul produk juga menyebutkan indium, sehingga mohon konfirmasi komposisi dan spesifikasi target yang tepat kepada AMI Scientific sebelum digunakan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis berbasis karbon untuk riset lapisan pelindung dan penghalang
- Pembuatan lapisan karbon untuk studi perangkat elektronik dan optoelektronik
- Pengembangan lapisan elektroda dan antarmuka untuk riset elektrokimia
- Studi modifikasi permukaan substrat di laboratorium akademik dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—