Target sputtering karbon (C) ini adalah material sumber karbon padat yang dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD). Dalam sputtering, ion berenergi tinggi menumbuk permukaan target sehingga atom karbon terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Target karbon termasuk golongan material anorganik berbasis karbon yang digunakan dalam riset lapisan tipis dan pengembangan pelapisan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis karbon untuk riset ilmu material
- Pengembangan lapisan pelindung karbon, seperti lapisan mirip intan (diamond-like carbon), untuk studi ketahanan aus
- Pembuatan lapisan konduktif atau elektroda dalam riset perangkat elektronik dan energi
- Persiapan lapisan karbon untuk eksperimen optik dan ilmu permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—