Target sputtering Chromium (Cr) adalah lempengan padat dari logam transisi kromium, dirancang untuk digunakan dalam sistem physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom kromium dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan logam tipis. Produk ini tercantum dalam kategori nanomaterial, dan judulnya juga menyebutkan indium, sehingga konfigurasi pengikatan (bonding) atau backing perlu dikonfirmasi sebelum pemesanan.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan adhesi dan penghalang dalam riset perangkat lapisan tipis
- Lapisan logam pelindung dan dekoratif dalam kajian rekayasa permukaan
- Tahap metalisasi dalam prototipe mikroelektronika dan lapisan optik
- Studi dasar pertumbuhan lapisan tipis logam dan proses deposisi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—