Target sputtering kromium (chromium sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 3'' dan ketebalan 0,125''. Target berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan atom dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Kromium adalah logam keperakan yang keras dan getas, dapat dipoles hingga mengilap seperti cermin, serta tahan korosi. Karena sifat tersebut, target kromium banyak dipakai untuk pelapis dekoratif yang mengilap, lapisan tahan korosi, dan pelapis keras pelindung aus, termasuk pada komponen mesin seperti ring piston.
Proses deposisi sputter bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya, dari proyek riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memungkinkan pengendalian pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
- Deposisi uap fisik (PVD) lapisan tipis dan pelapis fungsional untuk komponen elektronik, layar, dan perkakas.
- Pelapis mengilap dan tahan korosi untuk komponen otomotif seperti velg dan bumper, serta kaca otomotif.
- Pelapis keras tahan aus untuk melindungi komponen mesin seperti ring piston.
- Lapisan tipis dalam fabrikasi sel fotovoltaik dan baterai.
- Krom vakum untuk jam tangan, komponen peralatan rumah tangga, batang piston, katup geser, cermin, dan kaca berwarna.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CH18
- Bahan: Kromium (Cr)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01CH18
—
—