Target sputtering kromium (chromium sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram 4'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,95%. Target ini menjadi sumber material pada proses deposisi uap fisik (PVD), di mana atom-atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Kromium adalah logam keperakan yang keras dan getas, dikenal karena kilau cerminnya serta ketahanan korosinya yang tinggi. Sifat ini menjadikan lapisan kromium pilihan umum untuk pelapisan dekoratif mengilap, lapisan pelindung anti-korosi, dan lapisan keras tahan aus pada komponen mesin seperti ring piston.
Deposisi sputtering bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis dan pelapisan fungsional dengan metode PVD dalam produksi komponen elektronik, layar, dan perkakas.
- Pelapisan tahan korosi dan dekoratif mengilap pada suku cadang otomotif seperti velg dan bemper, serta pada kaca otomotif.
- Pelapisan keras pelindung keausan untuk komponen mesin seperti ring piston.
- Krom vakum pada jam tangan, komponen peralatan rumah tangga, batang piston, katup geser, cermin, dan kaca berwarna.
- Lapisan tipis dalam fabrikasi sel fotovoltaik dan baterai.
- Etsa sputter dan teknik analisis permukaan seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CH20
- Material: Kromium (Cr)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
—
—