Target sputtering kromium (chromium sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 6'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,95%. Target berfungsi sebagai sumber material dalam proses sputter deposition, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Kromium adalah logam keperakan yang keras dan getas, dikenal karena kilap cerminnya serta ketahanan korosinya yang tinggi. Sifat ini menjadikan target kromium pilihan umum untuk lapisan dekoratif mengilap, lapisan pelindung anti korosi, serta lapisan keras tahan aus, misalnya pada komponen mesin seperti ring piston.
Proses sputtering bersifat repeatable dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali yang baik atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan, untuk aplikasi komponen elektronik, layar, perkakas, sel fotovoltaik, dan baterai.
- Deposisi fisika uap (PVD) lapisan tipis dan pelapis fungsional kromium untuk komponen elektronik, layar, dan perkakas.
- Pelapisan mengilap dan tahan korosi pada komponen otomotif seperti velg dan bumper, serta pelapisan kaca otomotif.
- Pelapisan keras pelindung aus untuk komponen mesin seperti ring piston.
- Vacuum chroming pada jam tangan, komponen peralatan rumah tangga, batang piston, katup geser, kaca film, dan cermin.
- Deposisi lapisan tipis dalam fabrikasi sel fotovoltaik dan baterai.
- Sputter etching dan analisis komposisi seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CH21
- Material: Kromium (Cr)
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01CH21
—
—