Target sputtering chromium (Cr) adalah cakram atau pelat logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan film tipis kromium. Kromium merupakan logam transisi yang keras dan tahan korosi, sehingga film hasil sputtering-nya berguna dalam riset rekayasa permukaan dan perangkat film tipis.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran harga.
- Lapisan perekat dan ikatan dalam tumpukan film tipis multilapis
- Lapisan pelindung keras, tahan aus, dan tahan korosi
- Lapisan metalisasi dan elektroda dalam riset mikroelektronika dan optik
- Lapisan seed atau buffer dalam studi film tipis magnetik dan optik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—