Target sputtering chromium (Cr) adalah lempeng logam chromium padat dan berdensitas tinggi yang digunakan sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom chromium yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Chromium termasuk golongan logam transisi dan dihargai karena kekerasannya, ketahanan korosi, serta daya lekat yang baik pada berbagai substrat.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan perekat dan lapisan benih dalam riset perangkat elektronik lapisan tipis dan mikroelektronika
- Lapisan pelindung anti-korosi dan tahan aus untuk peralatan serta komponen
- Lapisan logam dekoratif pada kaca, plastik, dan substrat logam
- Hard mask berbasis chromium dan lapisan pola dalam riset litografi
- Pengembangan lapisan optik tipis dan lapisan reflektif
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—