Target sputtering kromium (Cr) adalah lempengan logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan film kromium tipis pada substrat. Kromium merupakan logam transisi yang keras, dan target sputtering dari bahan ini berfungsi sebagai sumber material dalam sistem deposisi vakum untuk membentuk lapisan yang terkontrol dan seragam secara bertahap.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan perekat dan lapisan awal (seed) pada tumpukan film tipis multilapis
- Riset lapisan pelindung dan dekoratif yang keras serta tahan korosi
- Eksperimen elektronika film tipis dan mikrofabrikasi
- Pengembangan lapisan optik dan reflektif
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—