Target sputtering kromium oksida (Cr2O3) adalah material sumber berbahan dasar oksida keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Kromium(III) oksida merupakan oksida berbasis kromium yang dikenal karena kekerasan dan stabilitas kimianya. Daftar produk ini juga mencantumkan indium, yang umumnya berkaitan dengan proses pengikatan target pada pelat pendukung untuk kontak termal yang lebih baik selama sputtering.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis pelindung dan tahan aus dalam riset material
- Studi lapisan anti-korosi pada substrat logam dan kaca
- Pengembangan lapisan tipis optik dan dielektrik
- Riset dasar tentang lapisan tipis oksida dan sifat elektroniknya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—