Target sputtering kromium oksida (Cr2O3) adalah material sumber keramik oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Kromium oksida termasuk golongan oksida logam transisi dan dikenal karena stabilitas kimianya. Daftar produk ini juga menyebutkan indium, yang umumnya digunakan sebagai bahan pengikat untuk menempelkan target keramik pada plat pendukung. Mohon konfirmasi konfigurasi pengikatan yang tepat kepada AMI Scientific.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis pada lapisan oksida
- Studi lapisan pelindung dan lapisan fungsional
- Pengembangan lapisan tipis optik
- Riset elektronika lapisan tipis dan resistive switching
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—