Target sputtering Chromium Oxide (Cr2O3) adalah lempengan sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. Chromium oxide merupakan senyawa keramik dari kromium dan oksigen, termasuk dalam golongan oksida logam. Material ini dihargai karena kekerasan, stabilitas kimianya, dan sifat optiknya.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis pelindung dan tahan aus dalam riset material
- Pembuatan lapisan optik dan dekoratif
- Pengembangan lapisan dielektrik dan isolasi untuk riset perangkat elektronik
- Studi modifikasi permukaan untuk ketahanan korosi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—