Target sputtering kromium oksida (chromium oxide sputtering target) Cr2O3 dari Nanografi berbentuk cakram berdiameter 1'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,8%-99,9%. Target ini menjadi bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis kromium oksida melalui sputtering, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian terendapkan pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputtering memberikan hasil yang dapat diulang dan dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
Lapisan Cr2O3 memiliki kekerasan tinggi dan koefisien gesek rendah, sehingga kromium oksida berpotensi menggantikan nitrida logam transisi atau Al2O3 pada aplikasi khusus. Lapisan tipis kromium oksida juga digunakan pada sirkuit terpadu, layar panel datar, perangkat optik, serta sebagai pelapis keras pelindung pada perekaman magnetik.
- Deposisi lapisan tipis kromium oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Pelapis keras dengan gesekan rendah sebagai alternatif nitrida logam transisi atau Al2O3 pada aplikasi khusus.
- Lapisan tipis untuk sirkuit terpadu, layar panel datar, dan perangkat optik.
- Pelapis tahan korosi dan aus untuk head dan media magnetik, termasuk permukaan bantalan pita pada head digital compact cassette (DCC).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,8%-99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CH26
- Material: Kromium Oksida (Cr2O3)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01CH26
—
—