Target sputtering chromium oxide (Cr2O3) adalah sumber oksida keramik padat yang terbuat dari kromium(III) oksida, senyawa anorganik yang banyak dipelajari dalam ilmu material. Target ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis kromium oksida pada substrat untuk keperluan riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan pelindung keras dan tahan aus pada perkakas dan komponen mekanik
- Lapisan tipis optik dan lapisan interferensi dalam pembuatan prototipe laboratorium
- Lapisan dielektrik dan resistif dalam riset perangkat elektronik
- Studi dasar pertumbuhan lapisan tipis oksida dan sifat permukaannya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—