Chromium oxide (Cr2O3) sputtering target adalah keping sumber keramik padat yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk menghasilkan lapisan tipis kromium oksida. Kromium oksida termasuk golongan oksida logam transisi dan dihargai karena kekerasan, stabilitas kimia, dan sifat optiknya. Pada sputtering, pemboman ion melepaskan material dari target ke substrat, sehingga ini menjadi salah satu jalur umum untuk pertumbuhan lapisan yang seragam. Nanografi menyediakan target ini dalam rangkaian nanomaterialnya untuk pekerjaan pelapisan skala riset.
- Jumlah: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset lapisan pelindung dan tahan aus
- Pengembangan lapisan optik untuk lapisan interferensi tipis
- Studi lapisan resistif dan dielektrik dalam mikroelektronika
- Studi kimia permukaan menggunakan sistem model lapisan tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—