Target sputtering kromium oksida (chromium oxide sputtering target) Cr2O3 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 4'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,8%-99,9%. Produk ini menjadi bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis kromium oksida melalui proses sputtering, yaitu pengikisan material dari target lalu pengendapannya pada substrat seperti wafer silikon.
Proses sputtering bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar. Banyaknya parameter proses memungkinkan pengendalian yang cermat atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan, dengan reaksi yang dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Lapisan tipis Cr2O3 memiliki kekerasan tinggi dan koefisien gesek rendah, sehingga berpotensi menggantikan nitrida logam transisi atau Al2O3 pada aplikasi khusus. Material ini juga banyak dipakai pada perangkat optik dan elektrik seperti sirkuit terpadu dan layar panel datar, serta sebagai pelapis keras pelindung pada perekaman magnetik.
- Deposisi lapisan tipis kromium oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Pelapis keras dengan gesekan rendah sebagai alternatif nitrida logam transisi atau Al2O3 pada aplikasi khusus.
- Lapisan tipis untuk sirkuit terpadu, layar panel datar, dan perangkat optik.
- Pelapis pelindung terhadap aus dan korosi pada head dan media magnetik, termasuk permukaan kontak pita pada head digital compact cassette (DCC).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,8%-99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CH32
- Material: Kromium Oksida (Cr2O3)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01CH32
—
—