Target sputtering Cobalt (Co) adalah cakram atau pelat logam padat yang digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tipis kobalt pada substrat. Kobalt merupakan logam transisi yang dihargai karena sifat magnetik dan katalitiknya, sehingga target ini umum digunakan dalam riset material dan pengembangan film tipis. Nanografi menyediakannya sebagai bahan habis pakai untuk fabrikasi film yang terkendali pada skala laboratorium maupun pilot.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset film tipis magnetik dan media perekaman
- Pengembangan lapisan perangkat spintronik
- Studi lapisan katalis pada permukaan hasil rekayasa
- Riset metalisasi dan lapisan perekat untuk perangkat elektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—