Target sputtering kobalt (cobalt sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 8'' dan ketebalan 0,125''. Target ini menjadi bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses ketika atom dilepaskan dari permukaan target lalu mengendap sebagai lapisan tipis di atas substrat, misalnya wafer silikon.
Proses sputtering dapat diulang dengan hasil konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi para ahli kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Kobalt (nomor atom 27) adalah logam keras, berkilau, berwarna abu-abu keperakan. Logam ini mudah membentuk paduan dengan logam lain, dan paduan berbasis kobalt tahan aus serta tahan korosi. Kobalt juga termasuk salah satu dari tiga feromagnet suhu ruang dengan simetri uniaksial, sehingga penting dalam perekaman magnetik dan digital.
- Deposisi lapisan tipis kobalt pada perangkat mikroelektronik seperti mikroprosesor dan DRAM.
- Deposisi lapisan tipis secara sputtering pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan pengotor dalam kadar sangat rendah.
- Riset lapisan perekaman magnetik berbasis sifat feromagnetik kobalt.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CO11
- Bahan: Kobalt (Co)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,125''
- Nomor atom: 27
—
—