Target sputtering kobalt besi boron (Cobalt Iron Boron (Co-Fe-B) sputtering target) dari Nanografi adalah target paduan dengan kemurnian 99,95%, berukuran 2'' dan tebal 0,125''. Target ini menjadi bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis Co-Fe-B melalui sputtering, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari riset dan pengembangan skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Paduan boron dengan logam transisi seperti Co-Fe-B memiliki titik leleh tinggi, kekerasan, ketahanan aus dan korosi yang baik, konduktivitas listrik sangat baik, serta tahan terhadap serangan logam cair, sehingga cocok untuk pelapisan permukaan logam dan keramik. Paduan amorf besi-kobalt-boron juga memadukan kekerasan mekanis tinggi dengan sifat magnet lunak.
- Deposisi lapisan tipis paduan Co-Fe-B pada substrat seperti wafer silikon.
- Pelapisan keras yang tahan aus dan korosi untuk meningkatkan sifat permukaan logam dan keramik.
- Lapisan paduan magnet lunak untuk komponen seperti inti transformator dan toroid.
- Sputter etching (etsa sputter) yang membutuhkan anisotropi etsa tinggi.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CO17
- Material: Kobalt Besi Boron (Co-Fe-B)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01CO17
—
—