Target sputtering kobalt besi boron (cobalt iron boron sputtering target, Co-Fe-B) dari Nanografi ini merupakan target paduan dengan kemurnian 99,9%, berukuran 2'' dan tebal 0,125''. Target ini digunakan dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan material dari target untuk kemudian diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter memberikan hasil yang dapat diulang dan mudah ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar. Banyaknya parameter proses memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara luas.
Paduan boron dengan logam transisi seperti kobalt dan besi memiliki titik leleh dan kekerasan tinggi, ketahanan aus dan korosi yang baik, konduktivitas listrik sangat baik, serta tahan terhadap serangan logam cair. Karena itu, pelapisan dari material ini berpotensi meningkatkan sifat permukaan logam dan keramik. Paduan amorf Fe-Co-B juga memadukan kekerasan mekanis tinggi dengan sifat magnetik lunak.
- Deposisi lapisan tipis Co-Fe-B pada substrat seperti wafer silikon.
- Pelapisan pelindung permukaan logam dan keramik yang membutuhkan kekerasan serta ketahanan aus dan korosi.
- Pengembangan lapisan dan komponen magnetik lunak seperti inti transformator dan toroid.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material berbasis sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CO18
- Material: Kobalt Besi Boron (Co-Fe-B)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01CO18
—
—