Target sputtering kobalt besi boron (cobalt iron boron sputtering target, Co-Fe-B) dari Nanografi ini merupakan target paduan dengan kemurnian 99,9%, berukuran 3'' dan tebal 0,250''. Target ini menjadi sumber material dalam proses deposisi sputter, di mana material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter adalah teknik yang hasilnya dapat diulang dan cocok untuk substrat dengan beragam bentuk serta ukuran. Prosesnya dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga produksi batch dengan area substrat sedang sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi keleluasaan untuk mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Paduan boron dengan logam transisi seperti kobalt dan besi memiliki titik leleh dan kekerasan tinggi, ketahanan aus dan korosi yang baik, konduktivitas listrik sangat baik, serta tahan terhadap serangan logam cair, sehingga potensial untuk pelapisan yang meningkatkan sifat permukaan logam dan keramik. Paduan besi-kobalt-boron juga memadukan kekerasan mekanis tinggi dengan sifat magnetik lunak.
- Deposisi lapisan tipis Co-Fe-B pada substrat seperti wafer silikon.
- Pelapisan untuk meningkatkan sifat permukaan logam dan keramik.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Material untuk inti transformator dan toroid berkat kombinasi kekerasan mekanis dan sifat magnetik lunak.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01CO22
- Material: Kobalt Besi Boron (Co-Fe-B)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01CO22
—
—