Target sputtering tembaga (Cu) adalah lempeng sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tembaga tipis ke atas substrat. Tembaga merupakan logam transisi yang dikenal memiliki konduktivitas listrik dan termal yang baik, sehingga menjadi material yang umum digunakan dalam riset film tipis dan fabrikasi perangkat.
- Kuantitas: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis, atau penawaran harga.
- Deposisi film tipis untuk riset mikroelektronika dan interkoneksi
- Pengembangan lapisan konduktif untuk prototipe elektronik cetak dan fleksibel
- Studi manajemen termal dan lapisan reflektif
- Riset adhesi dan lapisan penghalang difusi pada tumpukan film tipis multilapis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—