Target sputtering tembaga (copper sputtering target) dari Nanografi ini berupa tembaga dengan kemurnian 99,99%, berukuran 2'' dan tebal 0,125'', dipasok per satu buah. Target ini menjadi sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana atom-atom dari target terkikis lalu mengendap sebagai lapisan tipis (thin film) di atas substrat seperti wafer silikon.
Tembaga adalah logam berwarna kemerahan yang mudah ditempa dan ulet, dengan konduktivitas termal dan listrik yang sangat baik serta ketahanan korosi yang baik. Karena sifat tersebut, lapisan tembaga banyak dipakai untuk melapisi komponen dan instrumen elektronik, termasuk sebagai lapisan elektroda pada transistor film tipis untuk layar TFT-LCD berformat besar dan beresolusi tinggi.
Target ini memiliki mikrostruktur berbutir sangat halus sehingga erosinya merata dan kecenderungan pembentukan partikel selama sputtering rendah. Proses sputtering bersifat berulang (repeatable), dapat ditingkatkan dari skala riset hingga batch produksi dengan substrat menengah hingga besar, serta memberi kendali luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis tembaga pada substrat seperti wafer silikon.
- Pelapisan komponen dan instrumen elektronik dengan lapisan tembaga konduktif.
- Pembuatan lapisan elektroda pada transistor film tipis untuk layar TFT-LCD.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi.
- Teknik analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST02CO05
- Material: Tembaga (Cu)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Mikrostruktur: Berbutir halus
- Kode produk: NG0ST02CO05
—
—