Target sputtering tembaga (Cu) adalah lempengan sumber padat yang terbuat dari tembaga logam, digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) seperti DC dan RF magnetron sputtering. Sebagai logam dalam golongan unsur logam konduktif, tembaga banyak diteliti karena sifat konduktivitas listrik dan termalnya. Nanografi menyediakan target ini untuk riset lapisan tipis skala laboratorium.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan benih dan interkoneksi konduktif pada elektronika lapisan tipis
- Pengembangan elektroda lapisan tipis untuk perangkat elektronik dan energi
- Studi metalisasi untuk rekayasa permukaan dan antarmuka
- Riset pelapisan untuk film logam optik dan dekoratif
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—