Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Copper (Cu) Sputtering Targets

Copper (Cu) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 11.492.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 11.492.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering tembaga (Cu) adalah lempeng logam padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Pada sputtering, ion menghantam permukaan target sehingga atom tembaga terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan logam tipis yang seragam. Tembaga termasuk golongan logam transisi dan dikenal karena konduktivitas listrik dan termalnya yang baik.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Deposisi lapisan tipis tembaga konduktif untuk riset mikroelektronika dan interkoneksi
  • Pembentukan lapisan seed untuk studi elektroplating lanjutan
  • Pembuatan lapisan logam untuk eksperimen termal dan optik
  • Pembuatan prototipe perangkat elektronik dan sensor berbasis lapisan tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—