Target sputtering Germanium (Ge) adalah pelat sumber padat yang terbuat dari germanium, unsur semikonduktor metaloid. Target ini digunakan dalam deposisi uap fisik (sputtering) untuk melapisi substrat dengan film tipis berbasis germanium. Judul produk juga menyebutkan indium, sehingga konfigurasi pengikatan atau backing perlu dikonfirmasi sebelum digunakan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset perangkat semikonduktor dan pengembangan proses film tipis
- Studi lapisan optik dan inframerah
- Riset material fotovoltaik dan termoelektrik berbasis film tipis
- Pembuatan lapisan mengandung germanium untuk eksperimen elektronik dan sensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—