Target sputtering germanium (germanium sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,999%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,250''. Target ini digunakan sebagai sumber material untuk membentuk lapisan tipis germanium melalui proses sputtering, yaitu pengikisan material dari target lalu pengendapannya pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik deposisi yang telah teruji, dapat digunakan untuk beragam material serta substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun justru memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis germanium pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching untuk kebutuhan anisotropi etsa yang tinggi ketika selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya pada spektroskopi ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), di mana sputtering mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01GE03
- Material: Germanium (Ge)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01GE03
—
—