Target sputtering germanium (germanium sputtering target) dari Nanografi adalah bahan sumber berkemurnian tinggi untuk deposisi lapisan tipis (thin film). Produk ini memiliki kemurnian 99,999%, ukuran 3'' dan ketebalan 0,250'', dan disediakan per satu buah.
Pada proses deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat seperti wafer silikon. Metode ini dapat diterapkan pada substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat, sehingga pengguna berpengalaman dapat mengendalikan pertumbuhan dan struktur mikro lapisan dengan baik.
Selain untuk deposisi, target sputtering juga digunakan dalam proses etsa sputter dan teknik analisis permukaan yang mengikis material dengan laju terkendali.
- Deposisi lapisan tipis germanium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana sputtering dengan laju konstan memungkinkan penentuan komposisi dan deteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian sputtering sebagai salah satu bentuk pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01GE05
- Material: Germanium (Ge)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01GE05
—
—