Target sputtering germanium (germanium sputtering target) dari Nanografi ini merupakan bahan sumber berkemurnian tinggi untuk deposisi uap fisik lapisan tipis germanium. Target memiliki kemurnian 99,999%, ukuran 4'' dan ketebalan 0,250'', serta disediakan dalam kemasan satu keping.
Pada proses sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat, misalnya wafer silikon. Teknik ini dapat digunakan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, dan dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga produksi batch untuk area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang baik atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis germanium pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan etsa dengan anisotropi tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01GE07
- Material: Germanium (Ge)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01GE07
—
—