Target sputtering Indium (In) adalah bahan sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis melalui proses sputtering. Indium merupakan logam pasca-transisi yang lunak dan termasuk golongan logam unsur, dihargai dalam riset lapisan tipis karena sifat konduktivitas listriknya dan perilaku titik lelehnya yang relatif rendah. Produk Nanografi ini ditujukan untuk riset lapisan tipis skala laboratorium dan pilot.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi film konduktif transparan berbasis oksida seperti ITO untuk riset layar dan panel sentuh
- Lapisan tipis untuk studi sel surya copper indium gallium selenide (CIGS)
- Riset metalisasi dan interkoneksi untuk perangkat semikonduktor
- Pengembangan lapisan untuk studi lapisan tipis optik dan pelindung
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—