Sputtering target Indium (In) adalah bahan sumber logam padat yang terbuat dari indium, logam pasca-transisi yang lunak. Dalam proses physical vapor deposition (PVD) seperti magnetron sputtering, target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atom indium terlepas dan terdeposisi pada substrat sebagai lapisan tipis. Produk ini termasuk dalam golongan bahan sputtering logam yang digunakan dalam riset lapisan tipis.
- 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis berbasis indium untuk riset optoelektronik
- Lapisan prekursor untuk studi semikonduktor senyawa dan sel surya lapisan tipis
- Pengembangan lapisan elektroda dan kontak pada perangkat laboratorium
- Eksperimen paduan dan pelapisan multilapis dalam ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—