Target sputtering indium (Indium (In) sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 2'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,99%. Target ini berfungsi sebagai sumber material dalam proses deposisi sputter, yaitu ketika atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Teknik sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses yang dikembangkan pada skala riset dan pengembangan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat metode ini cukup kompleks, namun memberi kendali yang tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Selain untuk deposisi lapisan, target sputtering juga dipakai dalam proses etsa sputter dan teknik analisis yang mengikis material target secara terkontrol.
- Deposisi lapisan tipis indium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Spektrometri massa ion sekunder (SIMS), dengan material dikikis pada laju konstan untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Peningkatan skala proses sputter dari riset dan pengembangan ke batch produksi berarea menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN05
- Material: Indium (In)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01IN05
—
—