Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Indium (In) Sputtering Targets

Indium (In) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 16.214.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 16.214.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering Indium (In) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menumbuk permukaan target dan melepaskan atom indium, yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Indium adalah logam lunak golongan pasca-transisi yang banyak digunakan dalam riset lapisan tipis dan semikonduktor.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Sumber prekursor untuk film konduktif transparan berbasis indium, seperti indium tin oxide (ITO)
  • Riset fotovoltaik lapisan tipis, termasuk pengembangan lapisan absorber dan kontak
  • Riset perangkat semikonduktor senyawa, seperti lapisan epitaksial dan kontak yang mengandung indium
  • Studi lapisan solder dan perekat pada aplikasi penyambungan bersuhu rendah

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—