Target sputtering indium (indium sputtering target) dari Nanografi ini adalah bahan sumber berkemurnian tinggi untuk membuat lapisan tipis (thin film) melalui proses sputtering. Kemurniannya 99,999%, ukuran 3'' dan ketebalan 0,125'', dan dipasok per satu keping.
Dalam deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini cocok untuk substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini kompleks, tetapi memberi pengguna berpengalaman kendali yang baik atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis indium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN10
- Material: Indium (In)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
—
—