Target sputtering indium (indium sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,99%. Target ini menjadi sumber material untuk membentuk lapisan tipis (thin film) indium melalui sputtering, yaitu proses pengikisan material dari target lalu diendapkan ke substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter merupakan teknik yang sudah teruji dan memberikan hasil yang dapat diulang pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Metode ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, dan dapat ditingkatkan hingga produksi batch dengan area substrat menengah hingga besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis indium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan sputtering, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian sputtering sebagai salah satu bentuk pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN11
- Material: Indium (In)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01IN11
—
—