Target sputtering indium (indium sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,999%. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis (thin film) pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknologi yang telah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, mulai dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
Tergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis indium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi material dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), di mana sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01IN12
- Material: Indium (In)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01IN12
—
—