Target sputtering Indium (In) adalah pelat sumber padat yang terbuat dari logam indium, logam pasca-transisi yang lunak. Target ini digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis pada substrat. Produk Nanografi ini ditujukan untuk riset lapisan tipis skala laboratorium dan pilot.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis berbasis indium untuk riset perangkat optoelektronik
- Pembuatan lapisan oksida konduktif transparan melalui sputtering reaktif
- Studi lapisan tipis untuk prototipe semikonduktor dan sel surya
- Pengembangan lapisan metalisasi dan antarmuka di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—