Target sputtering Indium (In) adalah pelat logam padat berdensitas tinggi yang digunakan sebagai material sumber dalam deposisi uap fisik (PVD). Indium merupakan logam pasca-transisi yang lunak dan mudah ditempa, dan banyak digunakan dalam riset lapisan tipis. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom indium terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis yang seragam.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis berbasis indium untuk riset perangkat optoelektronik
- Pembuatan lapisan konduktif transparan untuk prototipe display dan sel surya
- Pengembangan lapisan elektroda dan kontak dalam studi perangkat semikonduktor dan lapisan tipis
- Riset pelapisan permukaan dan material di laboratorium universitas maupun industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—