Sputtering target Indium Oxide (In2O3) adalah disk keramik padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam physical vapor deposition. In2O3 merupakan semikonduktor oksida logam tipe-n dengan celah pita lebar, dan banyak diteliti sebagai oksida konduktif transparan, sering dikombinasikan dengan timah oksida. Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis konduktif transparan untuk riset display dan sel surya
- Fabrikasi thin-film transistor dan lapisan semikonduktor oksida
- Pengembangan lapisan pelapis sensor gas
- Pembuatan prototipe perangkat optoelektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—