Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Indium Oxide (In2O3) Sputtering Targets

Indium Oxide (In2O3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 11.414.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 11.414.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Indium oksida (In2O3) adalah semikonduktor oksida logam tipe-n dengan celah pita lebar, yang banyak digunakan sebagai material sumber untuk physical vapor deposition. Target sputtering adalah lempengan keramik padat yang berfungsi sebagai sumber pada sputtering magnetron, di mana atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk film tipis. Indium oksida merupakan komponen inti dalam sistem oksida konduktif transparan.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Film konduktif transparan untuk layar datar dan panel sentuh
  • Elektroda untuk sel surya film tipis dan perangkat optoelektronik
  • Lapisan kanal dan sensor gas dalam riset film tipis
  • Lapisan optik dan fungsional dalam studi ilmu material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—