Target sputtering indium oksida (In2O3) adalah material sumber berbentuk keramik yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis indium oksida pada substrat. Sebagai semikonduktor oksida logam tipe-n, In2O3 termasuk dalam golongan oksida konduktif transparan (TCO), yang dihargai karena menggabungkan transparansi optik dengan konduktivitas listrik.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan konduktif transparan untuk riset layar dan panel sentuh
- Lapisan kanal pada studi transistor lapisan tipis oksida
- Pengembangan prototipe perangkat optoelektronik dan fotovoltaik
- Pengembangan lapisan sensing gas
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—